相对而言,专利保护法更容易受到保护是消费产品的相关专利,侵犯了专利的友商产品除非不上市,一旦上市,其专利侵权的部分肯定会被发现。
这项技术非常简单,但是意义却是非凡了。仅以能耗为例,6英寸装料量60公斤的单晶炉为例平均能耗在120KH,而采用了最原始的固定式热屏技术,单晶炉的能耗就可以轻易的降低到90KH。而且,采用了热屏的单晶炉,还能显著提升单晶的生长速度,单晶的直径尺寸和良品率也大幅度的提升。
而后来固定式热屏技术的基础上,还出现了更先进的移动热屏,该技术直接把能耗进一步降低,原本能耗120KH的单晶炉,能耗可以进一步降低到了60KH!
后世的半导体行业爆产能,热屏技术也做出了突出的贡献。后世的电子产品的消费者,实际上,也是单晶炉热屏技术的受益者。
1986年7月,在孟欣率领下,单晶炉热屏技术就迅速从理论变成实际的产品。
这项成果本质上并不是太难,成本也不是很高。在成本大概5000多块钱的国产单晶炉里面,增加一个固定的组合件。大致上,仅需要不到1万元成本就可以将一台单晶炉改造成有固定热屏的新式单晶炉。
而目前进口的单晶炉,成本不低于1万美元一台,在比国产的单晶炉更贵的情况下,性能却远远不如这种新式带热屏的单晶炉。
这种一万美元一台的设备,实际上顶多用35次就报废,需要更换新的单晶炉。当然了,国外有寿命更长的单晶炉,能用十次左右,但却是禁止对天朝出口的。几十年后单晶炉寿命则是轻易的达到上百炉甚至更长久的寿命。当然了,配合热屏技术的话,晶圆生产的成本和效率,将达到80年代的半导体厂商难以想象的程度。
当然了,使用寿命更长的单晶炉,这则涉及到更复杂的材料学,并不是简单的弄出一份设计图纸就能搞出来。
刘森疑惑的问道:
“这个技术很厉害?”
刘森毕竟不是理工狗,所以只知道CPU、显卡、内存、硬盘、显示面板等等普通消费者看见的摸得着的东西。
还有就是最复杂的光刻机,由于芯片加工都需要光刻机,光刻机也是晶圆加工工业中,最昂贵的设备。集成电路能集成多少晶体管,主要取决于光刻机的精度。所以,即使是小白,都知道光刻机非常关键!
相对于高大上的光刻机而言,单晶炉就显得很土鳖,很少有外行人关注单晶炉技术的发展。
孟欣微笑着说道:
“当然厉害了!决定芯片性能和产能的,不仅仅是光刻机,晶圆的产能和质量,也是非常关键和重要的技术。
仅凭着这项技术,至少可以给你们的芯片节省30的成本!品质更高的晶圆,也会让芯片加工的良品率更高、性能更好!其实短期内,光刻机的技术没取得突破,仅凭着单晶炉的技术突破,就足以让芯片产能、性能、成本等等指标,都获得大幅度的提升!”
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